薄膜工学 第3版

薄膜工学 第3版

著者名 日本学術振興会薄膜第131委員会 編集企画
金原 粲 監修
吉田 貞史 編著
近藤 高志 編著
発行元 丸善出版
発行年月日 2016年11月
判型・装丁 A5 210×148 / 並製
ページ数 316ページ
ISBN 978-4-621-30098-5
Cコード 3042
NDCコード 428
ジャンル 物理学 >  物性物理
物理学 >  応用物理 >  薄膜
機械・金属・材料 >  材料工学

内容紹介

日本学術振興会薄膜131委員会のサマースクールの内容を元に「薄膜」という幅広い分野を平易に解説した教科書。専門分野の基礎の再確認と隣接分野の理解に最適。学生や企業の若手を対象とした入門書としては類書がない。改訂により、基本を重視した教科書としての価値を高めるとともに、半導体など新規の技術についての解説もアップデート。

目次

1 薄膜工学の基礎
 1.1 薄膜の歴史
 1.2 薄膜と工学
 1.3 薄膜形成技術
 1.4薄膜の応用
2 薄膜作製法
 2.1 真空蒸着・MBE法
 2.2 スパッタリング
 2.3 化学気相成長
 2.4 印刷法
3 薄膜評価法
 3.1 膜厚・形状評価
 3.2 結晶構造評価
 3.3 組成・状態分析
 3.4 力学的・機械的性質の評価
4 薄膜の機能と応用
 4.1 半導体薄膜(シリコン系)
 4.2 半導体薄膜(化合物)
 4.3 薄膜の光学的性質
 4.4 誘電体薄膜
 4.5 磁性薄膜
 4.6 有機薄膜
 4.7 薄膜の化学的性質

定価:本体3,800円+税
在庫:在庫あり