薄膜工学 第2版
著者名 | 金原 粲 監修 吉田 貞史 編 近藤 高志 編 日本学術振興会薄膜第131委員会 編集企画 |
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発行元 | 丸善出版 |
発行年月日 | 2011年06月 |
判型 | A5 210×148 |
ページ数 | 310ページ |
ISBN | 978-4-621-08414-4 |
Cコード | 3042 |
ジャンル | 物理学 |
内容紹介
日本学術振興会薄膜131委員会のサマースクールの内容を元に「薄膜」という幅広い分野を平易に解説した教科書。専門分野の基礎の再確認と隣接分野の理解に最適。学生や企業の若手を対象とした入門書としては類書がない。改訂により、基本を重視した教科書としての価値を高めるとともに、半導体など新規の技術についての解説もアップデート。
目次
1 薄膜工学の基礎
1.1 薄膜の基礎
1.2 薄膜のプロセスと応用
2 薄膜の作製法
2.1 真空蒸着
2.2 スパッタリング
2.3 化学気相成長法
コラム 超臨界流体薄膜
ナノインプリント
インクジェット
3 薄膜の評価
3.1 形状・構造評価
3.2 組成評価・分析
3.3 力学的・機械的性質の評価
4 薄膜の機能と応用
4.1 半導体薄膜
4.2 光学薄膜と透明導電膜
4.3 誘電体薄膜
4.4 磁性薄膜
4.5 薄膜の化学的性質と機能
4.6 有機薄膜
出版社からのメッセージ
本書は改訂版『薄膜工学 第3版』(2016年11月刊)を刊行しています。