プラズマ/プロセスの原理 第2版

プラズマ/プロセスの原理 第2版

原書名 Principles of Plasma Discharges and Materials Processing Second Edition
著者名 堀 勝 監修
佐藤 久明
発行元 丸善出版
発行年月日 2010年01月
判型 B5 257×182
ページ数 648ページ
ISBN 978-4-621-08223-2
Cコード 3042
NDCコード 427
ジャンル 物理学 >  物性物理

内容紹介

半導体製造装置において使用する弱電離、非平衡プラズマに的を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を基礎から応用に至るまで原理的、解析的、系統的に解説。また、得られた解析結果をどのように適用してゆけばよいかを多くの例題を用いて提示。半導体製造装置に代表されるプラズマ応用装置を研究、開発、設計するすべての技術者にとって恰好の手引書。

目次

第1章 序論
第2章 プラズマの基礎方程式と平衡状態
第3章 原子との衝突   
第4章 プラズマ運動論
第5章 拡散と輸送
第6章 直流シース
第7章 化学反応と平衡状態
第8章 分子との衝突
第9章 化学運動論と表面プロセス
第10章 放電中の粒子バランスおよびエネルギ・バランス
第11章 容量性放電
第12章 誘導性放電
第13章 電磁波加熱放電
第14章 直流放電
第15章 エッチング   
第16章 デポジションとイオン注入
第17章 ダストがあるプラズマ
第18章 放電の運動理論
付録

定価:本体18,000円+税
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