デジタル回折光学
原書名 | Digital Diffractive Optics |
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著者名 | 小舘 香椎子 監訳 藤野 誠 訳 駒井 友紀 訳 |
発行元 | 丸善出版 |
発行年月日 | 2005年03月 |
判型 | A5 210×148 |
ページ数 | 460ページ |
ISBN | 978-4-621-07568-5 |
Cコード | 3055 |
ジャンル | 電気・電子・情報工学 |
内容紹介
回折効果の基礎理論から解説し、さらにデジタル光学の設計理論、作製から技術的な応用における最先端技術について記述。また、光MEMS技術や集積化された導波路、微小屈折光学、マイクロオプティクスなどの新しい分野のデバイスやモジュールの実現について長期的な視点を含めて考察する。デジタル回折光学全体を網羅し、基礎から応用までを系統的に構成しているため、初めてこの分野を学ぶ学生や技術者、先端応用を期待する研究者にとってわかりやすい入門書。
目次
序章 回折から回折光学へ
1.はじめに
2.ホイヘンス―フレネルの回折理論
3.フラウンホーファー回折とフレネル回折
4.ファーフィールド回折パターンの例
5.まとめ
第1章 回折光学素子の設計とシミュレーション
1.はじめに
2.DOEの回折モデル:理論的背景
3.数値計算の技術
4.DOEの設計と最適化技術
5.DOEの設計モデルと数値計算技術
6.文献
第2章 DOEの作製と複製技術
1.はじめに
2.卓上DOE作製技術
3.ダイヤモンド機械装置(diamond machine tools)
4.動的なデバイス
5.マイクロリソグラフィ作製技術(microlithograpihc fabrication technology)
6.マイクロリソグラフィによる作製技術
7.複製技術(replication tecniques)
8.DOEの設計と作成のまとめ
9.文献
第3章 回折光学素子用のCADとCAMのツール
1.はじめに
2.CAD設計技術
3.CAD,CAMツールにおける高レベルのDOE操作
4.関連する許容量:設計ルールの確認
5.文献
第4章 回折光学素子の作成許容値解析
1.はじめに
2.最適なマイクロリソグラフィ作製法
3.作製上の制約条件の分析とモデリング
4.作製許容解析
5.作製上の系統的誤差の補償法
6.文献
第5章 DOEマスクレイアウトの作製
1.はじめに
2.標準的な作製ファイルフォーマット
3.DOEデータの細分化技術
第6章 システムへの適用を重視したDOE設計例
1.はじめに
2.ハイブリッド工学システム
3.ハイブリッドレンズのその他の特性
4.オプトエレクトロニクス・システム
5.オプトメカニカル・システム
6.まとめ
7.文献